当北方的清晨亮起第一抹阳光,长春光机所地下实验室里,一场激动人心的实验,也终于开始了。
激光发生器开始预热,这是全套光刻机台中最核心的部件之一,由中科光电院设计制造。
激光光源射出后,首先会进入光束矫正器,矫正器共有三组,调整光束入射方向,让激光束尽量保持平行。
调整完毕的平行激光,会进入能量控制器。
顾名思义,能量控制器是调节激光功率的存在,控制最终照射到硅片上的能量大小。
像芯片这样的高精密制造业,无论曝光不足或者过足,都会严重影响出片质量,所以能量必须收到严格的控制。
能量控制器之后,是光束形状设置器,它可以设置光束形态,呈圆型,环型,散射型等等不同的形状,而不同形态的激光,又有着不同的光学特性。
光束形状设置器尾部,还有一组遮光器,在不需要曝光的时候,遮光器会把光束拦下来,防止光束照射到硅片上。
再然后是能量探测器,这个东西主要是检测光束功率的,它无法单独使用,而是将检测信号回馈给能量控制器,配合能量控制器进行功率调整。
调整完毕的激光束,会穿过掩模版,进入物镜。
掩膜版也叫光罩,简单来说呢,它就是一块内部刻着线路设计图的玻璃板,给硅片曝光用的,你想要什么样的半导体设计线路,就定制什么样的掩膜版。
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